硝酸铈铵电子蚀刻 水处理添加

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在半导体器件制作中，光罩是常用的工具之一，光刻技术应用于光敏感胶，它作为一种聚合可溶解物被涂在金属衬底或玻璃表面，然后光刻胶被烘焙除去溶剂，再将其电子束或激光光束，然后进行化学处理，如显影、蚀刻等工艺。
早期蚀刻液与铬膜反应较慢，蚀刻不均匀，进口原液反应时间较快，蚀刻均匀，但是进口原液价格非常昂贵，高昂的价格造成掩模版后续制程投入非常大，大大增加了制程成本。现发现一种气体挥发少、成本低、蚀刻效果好的蚀刻液，其组成有硝酸铈铵、高氯酸和水组成，采用上述配比的蚀刻液进行刻蚀后，版材蚀刻线条质量好，线性较好，缺陷数目较少，可以与进口的原液相媲美。