蚀刻液添加硝酸铈铵 电路板及铬掩模板蚀刻液的重要的组成成
硝酸铈(Ⅳ)铵, 硝酸铈铵二水合物;英文名Diammonium cerium(IV) nitrate分子式：(NH4)2Ce(NO3)6•2H2O
硝酸铈铵分子量：584.23
CAS . :16774-21-3
外观性状：桔红色单斜晶系细小结晶，易溶于水，有潮解性，密闭保存。
硝酸铈铵产品外观：产品呈桔红色微结晶，极容易潮湿，溶解于水和己醇，不溶解于浓硝酸，但溶解于稀硝酸
产品化学式：（NH4）2Ce(NO3)6.2H2O, CAS NO:16774-21-3
产品主要用途：用作催化剂和氧化剂，电路板刻蚀剂，医药中间体，化学试剂，电子技术工业等，
硝酸铈铵产品是电路板及铬掩模板蚀刻液的重要的组成成份，在半导体器件制作中光罩是常用工具，光刻技术应用于光敏感胶，硝酸铈铵作为一种聚合可溶解物被涂在金属衬底，或玻璃表面，然后光刻胶烘焙除去溶剂，再将其电子束或激光光束，然后光进行化学处理，如显影蚀刻等工艺。
先刻蚀液和铬膜反应比较慢，蚀刻不均匀，原料主要以进口为主，进口原液反应较很好。蚀刻均匀，但是进口原液价格特别高昂，高昂的价格会使掩膜板后续制作成本大大增加，目前发现有一种气体挥发少，成本低，蚀刻效果非常好的蚀刻液其主要成份就有硝酸稀土中的硝酸铈铵，高氯酸和水的组成溶液（由于硝酸铈铵溶解于水中时容易出现水解反应溶液会出现沉现象，使溶解液不清亮，为了防止此水解现象出现，在配制此刻蚀液时一定要加入过量的稀硝酸且制成的溶液不能放置时间太长即时地使用完）通过上述制成蚀刻剂（液）进行刻蚀后板材蚀刻线质量好，线性较好且均匀，完全可以相比于并优于进口的原液。
硝酸铈铵分子量：584.23
CAS . :16774-21-3
外观性状：桔红色单斜晶系细小结晶，易溶于水，有潮解性，密闭保存。
硝酸铈铵产品外观：产品呈桔红色微结晶，极容易潮湿，溶解于水和己醇，不溶解于浓硝酸，但溶解于稀硝酸
产品化学式：（NH4）2Ce(NO3)6.2H2O, CAS NO:16774-21-3
产品主要用途：用作催化剂和氧化剂，电路板刻蚀剂，医药中间体，化学试剂，电子技术工业等，
硝酸铈铵产品是电路板及铬掩模板蚀刻液的重要的组成成份，在半导体器件制作中光罩是常用工具，光刻技术应用于光敏感胶，硝酸铈铵作为一种聚合可溶解物被涂在金属衬底，或玻璃表面，然后光刻胶烘焙除去溶剂，再将其电子束或激光光束，然后光进行化学处理，如显影蚀刻等工艺。
先刻蚀液和铬膜反应比较慢，蚀刻不均匀，原料主要以进口为主，进口原液反应较很好。蚀刻均匀，但是进口原液价格特别高昂，高昂的价格会使掩膜板后续制作成本大大增加，目前发现有一种气体挥发少，成本低，蚀刻效果非常好的蚀刻液其主要成份就有硝酸稀土中的硝酸铈铵，高氯酸和水的组成溶液（由于硝酸铈铵溶解于水中时容易出现水解反应溶液会出现沉现象，使溶解液不清亮，为了防止此水解现象出现，在配制此刻蚀液时一定要加入过量的稀硝酸且制成的溶液不能放置时间太长即时地使用完）通过上述制成蚀刻剂（液）进行刻蚀后板材蚀刻线质量好，线性较好且均匀，完全可以相比于并优于进口的原液。
