碳化硅坩埚在使用时的注意事项

碳化硅坩埚可在1450度以下使用，分透明和不透明两种。用电弧法制的半透明碳化硅坩埚是拉制大直径单晶硅，发展大规模集成电路必不可少的基础材料。当今，世界半导体工业发达国家已用此坩埚 取代了小的透明碳化硅坩埚。他具有高纯度、耐温性强、靶材尺寸大精度高、保温性好、节约能源、质量稳定等优点。

碳化硅坩埚适于用K2S2O7，KHSO4作熔剂熔融样品和用Na2S207(先在212度烘干)作熔剂处理样品。

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